1CS71.040.40 CCSG04 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T41064—2021/ISO17109:2015 表面化学分析深度剖析用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度部析溅射速率的方法 Surface chemical analysis-Depth profilingMethod for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy,Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layerthin films (IS017109:2015,IDT） 2021-12-31发布 2022-07-01实施国家市场监督管理总局发布国家标准化管理委员会

GB-T 41064-2021 表面化学分析深度剖析用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法

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GB-T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法

GB-T 41064-2021 表面化学分析深度剖析用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法